超臨界二氧化碳清洗系統(tǒng)

描述：SFE-1型超臨界二氧化碳清洗系統(tǒng)

超臨界二氧化碳無損傷清洗設(shè)備。應(yīng)用此設(shè)備對(duì)硅片進(jìn)行清洗的顆粒明顯減少，且平均粒徑小于傳統(tǒng)清洗的粒徑。相對(duì)用等離子法清洗，該方法不會(huì)對(duì)硅片造成損傷，同時(shí)可減少工藝步驟，節(jié)省時(shí)間，提高工作效率。

更新時(shí)間：2025-12-29

產(chǎn)品型號(hào)：SFE-1型

所在城市：南通市

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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SFE-1型超臨界二氧化碳清洗系統(tǒng)

一、概述：

超臨界二氧化碳無損傷清洗設(shè)備。應(yīng)用此設(shè)備對(duì)硅片進(jìn)行清洗的顆粒明顯減少，且平均粒徑小于傳統(tǒng)清洗的粒徑。相對(duì)用等離子法清洗，該方法不會(huì)對(duì)硅片造成損傷，同時(shí)可減少工藝步驟，節(jié)省時(shí)間，提高工作效率。

超臨界二氧化碳無損傷清洗設(shè)備擁有良好的溫度和壓力控制系統(tǒng)，并配有遠(yuǎn)程智能化操作系統(tǒng)，是一個(gè)適合高校和科研機(jī)構(gòu)的半導(dǎo)體工藝平臺(tái)。該設(shè)備有望解決微電子行業(yè)清洗工藝中的許多難題，例如刻蝕以及灰化后高縱深比結(jié)構(gòu)清洗、刻蝕以及灰化后多孔低介電材料清洗、清洗后干燥、半導(dǎo)體器件金屬顆粒的清洗等

超臨界超聲清洗目前應(yīng)用領(lǐng)域很廣的是核電特種清洗、電子電路芯片的清洗以及精密機(jī)加工件的表面和層隙清洗。

二、應(yīng)用范圍：

在半導(dǎo)體方面，超臨界二氧化碳清洗逐步代替刻蝕及灰化后產(chǎn)生的高縱深比機(jī)構(gòu)和成品芯片上的輔焊劑、金屬殘屑采用傳統(tǒng)的去離子水沖洗、酸蝕浸泡清洗、清洗劑清洗；

在新能源電動(dòng)汽車制造方面，超臨界二氧化碳清洗正被應(yīng)用于對(duì)車輪轂層析片微隙間的清洗油污、微粒作業(yè)；

在精密工件以及鈾屑方面，超臨界二氧化碳清洗的優(yōu)勢(shì)得到很大的發(fā)揮，其具有的清洗物分離簡(jiǎn)單，收集方便，表面無需處理、環(huán)保節(jié)能被發(fā)揮得*；

三、SFE-1型超臨界二氧化碳清洗系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù)：

主要性能指標(biāo)	序號(hào)	項(xiàng)目名稱	性能參數(shù)
	1	工作壓力	≤50MPa
	2	工作溫度	室溫～90℃
	3	清洗釜	1L/35MPa
	4	清洗工裝	塔式鎖緊結(jié)構(gòu) 2-24片
	5	回收釜	2×0.6L/30MPa
	6	制冷系統(tǒng)	4470kcal/h 溫控范圍：-5℃～﹢5℃ 風(fēng)冷
	7	二氧化碳儲(chǔ)罐	2L/16MPa
	8	二氧化碳泵	50L/h 50MPa 三柱塞變頻可調(diào)
	9	電源	AC380V 50Hz 三相五線 9kW
設(shè)備優(yōu)勢(shì)		1、清洗工裝采用塔式結(jié)構(gòu)，并設(shè)置均布系統(tǒng)，保證每片樣品都與高速清洗流體接觸；
※注：清洗釜體結(jié)構(gòu)以及工裝結(jié)構(gòu)均以實(shí)際樣品為依據(jù)設(shè)計(jì)、配置。